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钛铝靶

[ 时间:2018-01-02 ]

钛铝靶

靶材的主要指标之一是密度,靶材的纯度对薄膜性能影响较大,更是在靶材的原先的技术工艺中减少靶材固体中的气孔,有效提高了溅射薄膜性能,并且影响了薄膜的光学和电学性能。靶材密度越高,薄膜性能越好。

  靶材通常为多晶结构,晶粒大小从微米到毫米量级。晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快,而晶粒尺寸相差较小的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。


  钛铝靶应用范围:

  钛铝靶广泛应用于真空镀膜行业的膜层镀制、金属、银色、玫瑰金、七彩色、黑钛等。
  钛铝靶还可用于CVD涂层的原料、硬质涂层,硬面喷涂粉的主要原料。
  把钛通过多种方式制成钛溅射靶材,可用于各种镀膜,例如:太阳能、平板显示、玻璃及装饰镀膜等。
  钛铝靶可用于石油化工,真空制盐,氯碱工业,制药,精细化工,电解,电镀,海水淡化、航空航天等行业。

  产品参数:
  1.产品名称:钛铝靶
  2.表面:光亮,酸洗面
  3.号:TA0,TA1,TA2,TC4
  4.纯度:99.95%
  5.密度:4.51 g/cm3
  6.加工范围:按客户要求
  7.规格:可根据客户要求定做生产。
  8.应用域:工业用途。
  9.付款方式:30% 定金,70 %发货前付清。(含税开具17%增值税**)
  10.包装方式: 用垫有塑料隔板的木箱包装,内附有材质证明书及装箱单等附件,单箱重量不超过100kg。
  11.发货方式:快递或物流(可协商)
  12.运 费:供应商承担。
  13.后期服务:保质期内如出现质量问题,供方承担所有责任(正常使用范围内)



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