网站首页 - 产品中心 - 铜靶材

铜靶材

[ 时间:2018-11-18 ]

铜靶材

铜靶材是真空镀膜行业溅射靶材中的一种,是高纯铜材料经过系列加工后的产品,具有特定的尺寸和形状高纯铜材料。由于高纯铜特别是超高纯铜具有许多优良的特性,目前已广泛应用于电子、通信、超导、航天等领域。

铜靶材物理性质

名称

密度

色泽

熔点

沸点

铜靶材

8.92g/cm3

紫红色

1083.4

2567


铜靶材用途

适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等,可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等,相对其它靶材,铜靶材的价格较低,所以铜靶材是在能满足膜层的功能前提下的靶材料。

铜靶材分类

铜靶材有平面铜靶材和旋转铜靶材之分。

平面铜靶材是片状的,有圆形、方形等。

旋转铜靶材是管状的,利用效率高,但不易加工,要通过高纯铜挤压、拉伸、校直、热处理,机加工等多种加工工序才能最终制得铜旋转靶材成品。


铜靶材的概况


靶材名称

铜靶材

常用纯度

99.9%3N

99.99%4N

99.999%5N

99.9999%6N

常用尺寸

直径100*40mm

尺寸

目前长3000mm的铜靶材


铜靶材的生产方法

1、铜的生产和提纯:炼铜的原料是铜矿石。铜矿石可分为三类

⑴硫化矿如黄铜矿(CuFeS₂)斑铜矿(Cu5FeS₄)和辉铜矿(CuS)等。

⑵氧化矿如赤铜矿(CuO)孔雀石[Cu(OH)CO]硅孔雀石(CuSiO₃·2HO)等。

⑶自然铜铜矿石中铜的含量在1%左右(0.5%3%)的便有开采价值,因为采用浮选法可以把矿石中一部分脉石等杂质除去,而得到含铜量较高(8%35%)的精矿砂。经过提取后得到粗铜,再通过多次电解、区域熔炼等方法将铜从99.95%提纯到99.99%99.999%99.9999%,目前国内纯度在99.9999%6N)左右。

2、有了高纯度铜锭作为原材料,对原材料进行锻造、轧制、热处理等,使铜锭内晶粒变细小、致密度增加以满足溅射所需铜靶材的要求。

3、对变形处理后的高纯度铜材料进行机械加工,铜靶材加工要求精度高、表面质量高,加工成真空镀膜机所需的靶材尺寸就可以了,铜靶材与镀膜机多以螺纹相连接。

铜靶材展望

随着电子行业的飞速发展,对铜靶材的要求也在一步步增加,铜靶材的纯度和市场规范化、产品标准化还有待相关技术人员的共同努力!


扫一扫,关注我们