如果有可能的话,可能的是靶材利用率,磁控旋转靶材般在两头的位置,磁场形成回路,磁场强,这样,磁控溅射聚集更多的自由电子,形成较强的自维持放电现象。相对应的,容易溅射,溅射速率增强,所以溅射速度较其他地方的溅射速率快,靶材消耗就快,后形成两凹陷。
这样情况下,凹陷部分靶材先用完,其他地方的靶材还没有用完,所以便有了靶材利用率说。普通的平面靶材的利用率般是旋转靶材的1/2左右。旋转靶材的利用率般在60%左右。如果能达到100%的靶材利用率的,除了改变磁场强度的手段,就是改变靶材的结构。
网站首页
一键拨号
联系我们
在线留言