网站首页 - 新闻中心 - 行业新闻

溅射靶材制备工艺方法和特点

[ 发布日期:2022-02-17 点击:1160 来源:丰联科光电(洛阳)股份有限公司 【打印此文】 【关闭窗口】]
  大家都知道靶材分为很多种,比如合金,氧化物,铜、铝、不锈钢、镍、钛等金属,而根据金属的不同,需要用到各种不同的靶材制备方法,今天四丰小编就专门来为大家介绍一下溅射靶材制备工艺方法和特点,我们一起来了解一下吧!
  

  溅射靶材的不同工艺方法及特点

  

  1、粉末烧结法

  
  一般热压、真空热压、热等静压等工艺会用到粉末烧结法。
  
  (1)特点:这种制备工艺具有容易获得均匀细晶结构、节约原材料、生产效率高等特点。其关键在于需要选择高纯、超细粉末作为原料,选择可以实现快速致密化的成形烧结技术,从而保证靶材的低孔隙率,并控制晶粒度。在制备的过程中需严格控制杂质元素的引入。
  
  (2)适合金属:适合W、Mo、Ru等难溶性金属和合金。
  钨靶材

  2、熔炼铸造法

  
  一般真空感应熔炼、真空电弧熔炼、真空电子轰击熔炼等工艺会用到熔炼铸造法。
  
  (1)特点:熔炼铸造法和粉末法相比,熔炼合金靶材的杂质含量,特别是气体杂质含量低,而且能高密度化、大型化,但是对于熔点和密度相差都很大的金属,熔炼法会难以获得成分均匀的合金靶材。
  
  (2)适用金属:适合AI、Ti、Ni、Cu、Co、Ta、Ag、Pt等具有良好塑性的金属。
  

  3、挤压工艺

  
  一般热挤压、冷挤压、温挤压等都会用到挤压工艺。
  
  (1)特点:主要用于制备塑性好的金属及合金旋转靶材。
  
  (2)适用金属:适合AI、Cu、Zn等塑性好的金属。
  

  4、等离子喷涂法

  
  一般真空、水稳、气稳等离子喷涂等工艺都会用到等离子喷涂法。
  
  (1)特点:可用于制备脆性金属及合金、陶瓷靶材等旋转靶材。
  
  (2)适用金属:适合Cr、Si、氧化物等的旋转靶材。
  
  经过以上介绍可知溅射靶材制备工艺方法主要有粉末烧结法、熔炼铸造法、挤压工艺、等离子喷涂法等,不同工艺适用场合不同、特点不同、适用金属也不同,所以不同的金属所用到的制备工艺都是不同的,我们可以做个相关的了解,如果大家还有疑问可以随时致电洛阳高新四丰电子材料有限公司,我们的工作人员经验丰富、售后服务完善、所生产靶材规格多样、制备工艺精良,如有需要,欢迎大家随时致电或留言进行咨询。

扫一扫,关注我们