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两种常见的铜靶材生产工艺及加工注意事项

[ 发布日期:2020-06-15 点击:3352 来源:洛阳高新四丰电子材料有限公司 【打印此文】 【关闭窗口】]
  铜靶材目前广泛应用于电子、通信、超导、航天等领域,并且铜靶材价格低廉,使得其成为真空镀膜行业中的主力军。由于真空镀膜行业的限制,对铜靶材的尺寸和形状要求严格,因而必须严格把关铜靶材生产工艺,下面就由四丰小编为您介绍一下铜靶材生产工艺。
  

  一、铜靶材加工方法

  

  1、铸造法

  铜靶材
  将一定成分配比的合金原料熔炼,再将合金溶液浇注于模具中,形成铸锭,经机械加工制成靶材,铸造法在真空中熔炼、铸造。常用的熔炼方法有真空感应熔炼、真空电弧熔炼和真空电子轰击熔炼等,其优点是靶材杂质含量(特别是气体杂质含量)低,密度高,可大型化;缺点是对熔点和密度相差较大的两种或两种以上金属,普通熔炼法难以获得成分均匀的合金靶材。
  

  2、粉末冶金法

  
  将一定成分配比的合金原料熔炼,浇注成铸锭后再粉碎,将粉碎形成的粉末经等静压成形,再高温烧结,终形成靶材,其优点是靶材成分均匀。缺点是密度低,杂质含量高等,常用的粉末冶金工艺包括冷压、真空热压和热等静压等。
  

  二、铜靶材加工注意事项

  

  1、铜矿石的分类

  
  炼铜的原料是铜矿石,铜矿石可分为三类。一是硫化矿如黄铜矿、斑铜矿和辉铜矿等。二是氧化矿如赤铜矿、孔雀石、硅孔雀石等。三是自然铜,铜矿石中铜的含量在1%左右的便有开采价值,采用浮选法可以把矿石中部分脉石等杂质除去,而得到含铜量较高的精矿砂。
  

  2、粗铜的提纯

  
  粗铜再经过火法精炼或电解精炼而得到精铜。粗铜火度法精炼,直接生产含铜99.5%以粗铜火法精炼,直接生产含铜99.5%以上的精铜。该法仅适问用于金、银和杂质含量较低的粗铜,所产精铜仅用于对纯度要求不高的场答合。粗铜先经过火法精炼除去部分杂质,浇粗铜先经过火法精炼除去部分杂质,铸成阳极,再进行电解精炼,产出含铜99.95%以上,杂质含量达到标准的精铜属。
  

  3、高纯度铜材要求

  
  对变形处理后的高纯度铜材料进行机械加工,铜靶材加工要求精度高、表面质量高,加工成真空镀膜机所需的靶材尺寸就可以了,铜靶材与镀膜机多以螺纹相连接。有了高纯度铜锭作为原材料,对原材料进行锻造、轧制、热处理等,使铜锭内晶粒变细小、致密度增加以满足溅射所需铜靶材的要求。
  

  以上就是铜靶材生产工艺详解,可以看出铜靶材在生产的各个步骤中都有严格的要求,对铜的密度和纯度、靶材尺寸和形状都有精确的数据限制。现今电子行业迅速发展,铜靶材生产工艺急需提高,洛阳高新四丰电子材料有限公司在铜靶材的生产上一直严格要求自己,力争为您提供优质的服务。欢迎您来电或者留言咨询。

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